技術資料ダウンロード85％程度のフレキソ印刷は、このeCell形状でカバーできる最新のHD超高精密彫刻技術となります。高度な印刷品質、解像度を求め、又最新のトップドット技術の利点をフルに活用したいと考えているプリンターのニーズに応えるために開発されました。
eCellデータシートeCellアニロックス ロール転写技術を使用すると、従来の 60 度ハニカム彫刻 (yCell) よりも高い印刷品質、向上した解像度、および優れた印刷一貫性が実現できます。
細長いセル構造により、インク転写範囲が増加し、より安定したインク転写範囲が提供され、インチあたりの線数 (LPI) とインク保有量 (BCM) が増加します。
eCell 技術により、従来の 60 度ハニカム彫刻よりも、プリンターは高いスクリーン数を選択でき、線数（LPI)を落とすことなくセル当たりインクボリュームを維持することができます。
yCellデータシートUVインクを使用したフレキソ印刷に適した彫刻パターンで、Pegasusコーティング技術（PVDエッチング・フッ素プラズマエッチング）を採用した第二世代の60度ハニカム彫刻・yCell (HD) HDLE（高精密レーザー彫刻）です。
CAE の先進的な yCell アニロックスロールは、最適なインク射出と同時にインク節約を実現します。 60 度ハニカム彫刻 yCell は、高解像度のセル形状を利用して、従来の 30 度および 60 度彫刻パターンに比べて最適な印刷品質とロール寿命を保証します。
CAE独自のオープンセル彫刻で、インクがより流動的に転写されることにより、コーティング用途向きのセル形状です。蛇のような形状によりコブラと呼んでおり、微細なスクリーン印刷への高密度コーティングが可能となりました。
インクがより流動的に転写されることにより、クリシェ（刷版シート）と素材に転写されるインク量が劇的に向上し、濃度、不透明度、全体的な印刷品質が目に見えて向上します。 オープンセル構造により、洗浄も非常に簡単で、より長い寿命を保証いたします。
均質なインク転写により、不透明な白色印刷に適したセル形状です。
HiTT (高効率インク転写テクノロジー) は、インク転写の効率と均一性の向上を特徴としています。 HiTT セル彫刻は、不透明白印刷、ラッカー塗装、コーティング用途などの様々な特殊用途に対応いたします。
HiTT のオープンセル形状により、液体力学に関係なく残留インクを最小限に抑えることで、より広い転写が可能になりました。
